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Die EUV -Lithographiemaschine von ASML stieg auf 2,7 Milliarden Yuan

Laut Reuters kostet der Halbleiterausrüstungsgigant ASML die High-NA-EUV-Geräte der nächsten Generation bei etwa 400 Millionen US-Dollar, was einem Yuan von 2,7 Milliarden Yuan entspricht. Es wird berichtet, dass das Gerät eine höhere Präzision aufweist und mehr Teile verwendet. Das Modell ist 30% größer als die vorherige Generation und die Größe ist wie ein Doppeldeckerbus.

Um die technischen Herausforderungen zu bewältigen, etabliert ASML zusammen mit IMEC, der weltweit größten F & E -Institution, die weltweit größte Mikroelektronik. Es wird berichtet, dass der ASML -Prototyp in der ersten Hälfte von 2023 abgeschlossen sein wird.

ASML sagte extern, dass es im vierten Quartal 2021 5 Bestellungen für geplante High-NA-EUV erhalten habe.


ASML in den Niederlanden ist weltweit führend auf dem Gebiet der Lithographiemaschinen und das einzige Unternehmen der Welt mit EUV -Lithographie -Technologie -Lithographiemaschinen. Die von ASML geförderte Hoch-Na-Expositionstechnologie ist der Schlüssel zum fortgesetzten Gesetz von Moore.

Der Schlüssel zur Realisierung der fortschrittlichen Chip -Technologie liegt in der Halbleiterausrüstung für die Herstellung von Wafern. Die Lithographiemaschine ist die Ausrüstung mit den technischsten Schwierigkeiten und den höchsten Kosten in der Halbleiterausrüstung. Der aktuelle Halbleiterprozess wurde auf 3 Nanometer vorangetrieben, und TSMC trifft 1 Nanometer. Um diese fortschrittlichen Prozesse zu verwirklichen, sind High-End-Lithographiemaschinen untrennbar miteinander verbunden.

TSMC und Samsung sind auf dem Gebiet der globalen Foundry die einzigen zwei Halbleiter -Produktionsgiganten der Welt, die in fortschrittlicher Technologie konkurrieren. Die ASML High-End-Lithographiemaschine ist auch eine Waffe für die beiden Seiten, um in Zukunft zu konkurrieren. Es ist nicht schwer zu beurteilen, dass TSMC und Samsung die ersten Kunden der High-End-Lithographiemaschine von ASML sind.